Dökme hiyalüronik asitkozmetik, nutrasötikler, oftalmik cerrahi, yara iyileşme ve ortak sağlık ürünlerinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Bununla birlikte, higroskopik ve biyolojik olarak parçalanabilir doğası nedeniyle, HA'nın depolanması ve korunması stabilitesini ve etkinliğini sağlamak için kritiktir. Guanjie Biotech toplu bir hiyalüronik asit tedarikçisidir. Çeşitli endüstrilerin ihtiyaçlarını karşılayan yüksek kaliteli hyaluronik asit sağlıyoruz. Hyaluronik asidin nasıl depolanması gerektiğine ve hiyalüronik asidin raf ömrü olup olmadığına bakalım.
Hyaluronik asidin fizikokimyasal özellikleri
Depolama gereksinimlerini belirlemek için dökme hiyalüronik asidin moleküler yapısını anlamak esastır. HA, N-asetilglukozamin ve D-glukuronik asitin tekrarlanan disakkarit birimlerinden oluşan yüksek moleküler ağırlıklı bir polisakkarittir. Hidrofiliktir ve son derece viskoz sulu çözeltiler oluşturur, bu da nem, pH, sıcaklık ve mikrobiyal kontaminasyona duyarlı hale getirir.
Depolamayı etkileyen temel fizikokimyasal özellikler:
• Higroskopik:
Dökme hiyalüronik asit havadan kolayca suyu emer.
• Hidrolize edilebilir: aşırı pH'da hidrolize duyarlı.
• Biyolojik olarak parçalanabilir: Hyaluronidaz enzimleri ve bakteriler tarafından ayrıştırılır.
• Termolabil: Yüksek sıcaklıklarda bozulabilir.
• Oksidasyona duyarlı: Serbest radikallerin veya UV varlığında bozulurlar.
FarklıHiyalüronik asit formları Depolamak Hiyalüronik asit tozu
Dökme hiyalüronik asit tozu, dökme üretimde en kararlı ve yaygın olarak kullanılan formdur. Beyaz ila kirsiz, kokusuz bir toz olarak görünür ve doğru şekilde saklandığında nispeten uzun bir raf ömrüne sahiptir.
HA tozu için depolama yönergeleri:
•Sıcaklık:
Optimal koruma için, HA tozunu 2 ila 10 derece saklayın. Oda sıcaklığı (yaklaşık 25 derece) kısa süreli kullanım için kabul edilebilir, ancak genişletilmiş depolama için ideal değildir. Isı kaynaklarından veya 30 derecenin üzerindeki sıcaklıklara maruz kalmaktan kaçının, bu da moleküler bozulmayı hızlandırabilir.
•Nem:
Hyaluronik asit dökme tozu oldukça higroskopiktir. Yüksek neme maruz kalmak, keking ve bozulmaya yol açabilir. %30'un altında bağıl nemi koruyun. Daima kuru bir ortamda saklayın.
• Işık maruziyeti:
HA, oksidatif reaksiyonları başlatabilen UV ışığına ve doğrudan güneş ışığına yanıt olarak bozulur. Işık kaynaklarından uzakta karanlık, opak kaplarda saklayın.
•Ambalajlama:
Alüminyum folyo torbaları veya HDPE kapları gibi hava geçirmez, neme dayanıklı ve ışığa dayanıklı ambalaj kullanın. Depolama ve taşıma sırasında nemi emmek için kurutucular eklenmelidir.
•Raf ömrü:
Serin, kuru ve karanlık bir ortamda saklandığında, dökme hiyalüronik asit tozu kalitesini 2-3 yıla kadar koruyabilir.
Çözeltide hiyalüronik asit (sulu form)
Yığın hiyalüronik asidin sulu çözeltileri, öncelikle hidroliz, mikrobiyal kontaminasyon ve oksidasyon nedeniyle toz haline getirilmeye daha duyarlıdır. Genellikle topikal kozmetiklerde, serumlarda ve enjekte edilebilir ürünlerde kullanılırlar.
HA çözümü için depolama yönergeleri:
•Sıcaklık:
İdeal depolama koşulu 2 derece –8 derecesinde soğutulur. Buz kristali oluşumu ha polimer zincirlerini kırabildiğinden ve viskoziteyi azaltabileceğinden donma cesaretini kırılır.
•Sterilizasyon:
HA çözeltileri, özellikle enjekte edilebilir veya tıbbi kullanım için tasarlanmışsa, filtrasyon veya gama ışınlaması yoluyla tipik olarak sterilize edilmelidir.
• Koruyucular:
Kozmetik veya steril olmayan uygulamalarda, bakteriyel büyümeyi önlemek için sodyum benzoat, potasyum sorbat veya fenoksietanol gibi koruyucular kullanılır.
•Ambalajlama:
HA çözeltileri steril, hava geçirmez kaplarda saklanmalıdır. Potansiyel iyon değişimi ve pH kaymaları nedeniyle uzun süreli depolama için cam kaplar önerilmez. Tıbbi sınıf plastikleri veya kaplamalı camları tercih edin.
•Raf ömrü:
Uygun depolama altında ve koruyucu sistemlerde, çözüm 6-12 ay boyunca sabit kalır. Raf ömrü koruyucu veya soğutma olmadan önemli ölçüde daha kısadır.
Çapraz bağlı veya modifiye edilmiş hyaluronik asit
Çapraz bağlı HA, dermal dolgu maddelerinde, implantlarda veya tıbbi jellerde yaygın olarak bulunur. Kimyasal modifikasyon yoluyla (genellikle BDDE veya diğer çapraz bağlayıcılarla), HA zincirleri stabilize edilir, bu da onları enzimatik bozulmaya ve çevresel strese daha dirençli hale getirir.
Çapraz bağlantılı HA için Depolama Yönergeleri:
•Sıcaklık:
Oda sıcaklığı (15 derece –25 derece) genellikle çapraz bağlı dökme hiyalüronik asit için yeterlidir, ancak sıcaklık kontrollü bir ortamda depolama hala tavsiye edilir.
•Ambalajlama:
Bu ürünler mikrobiyal kontaminasyonu önlemek için orijinal, steril ambalajlarında kalmalıdır. Kullanmadan hemen önce açılmadan kaçının.
•Raf ömrü:
Çapraz bağlı HA ürünleri, spesifik formülasyon ve ambalaj bütünlüğüne bağlı olarak tipik olarak 18-24 aylık bir raf ömrüne sahiptir.
Hyaluronik asit stabilitesini etkileyen faktörler
Toz veya çözelti formunda olsun, hiyalüronik asidin (HA) stabilitesi, çeşitli çevresel ve kimyasal faktörlerden etkilenir. Bu faktörler HA'nın moleküler bütünlüğünü, viskozitesini ve biyolojik fonksiyonunu ne kadar sürdürdüğünü belirler. Aşağıda hyaluronik asit stabilitesini etkileyen temel faktörlerin ayrıntılı bir açıklaması bulunmaktadır.
Sıcaklık
Sıcaklık, dökme hiyalüronik asidin bozulmasında kritik bir rol oynar. Yüksek sıcaklıklar, hidroliz ve termal ayrışma yoluyla HA zincirlerinin parçalanmasını hızlandırır. Tipik olarak:
HA için optimum depolama sıcaklığı, uzun süreli koruma için 2 derece ile 10 derece arasındadır.
Oda sıcaklığı (25 derece) kısa süreli depolama için kabul edilebilir, ancak zaman içinde raf ömrünü azaltabilir.
High temperatures (>40 derece) hızlı moleküler degradasyon ve viskozite kaybına yol açabilir.
Sıcaklığa bağlı bozulma sadece moleküler ağırlığı etkilemekle kalmaz, aynı zamanda HA'nın hidrasyon ve esneklik açısından fonksiyonel performansını azaltır.
pH seviyeleri
Yığın hiyalüronik asit, hafif asidik ila nötr pH koşullarında (yaklaşık pH 5.0-7.0) en stabildir. Bu aralıktan sapmalar kararsızlığa neden olabilir:
• Asidik koşullar (pH <4.0) asit katalizli hidrolize yol açabilir ve polimer zincir uzunluğunu azaltır.
• Alkalin ortamları (pH> 8.0) -eliminasyon reaksiyonlarını tetikleyebilir ve HA'daki glikosidik bağları parçalayabilir.
Bu nedenle, formülasyonlarda pH dengesinin korunması HA'nın istikrarını ve işlevselliğini uzatmak için hayati önem taşır.
Nem ve nem
Nem, özellikle toz formunda HA'nın hidrolitik bozunmasına önemli bir katkıda bulunur. Toplu hiyalüronik asit higroskopiktir ve atmosferik nemi emebilir:
• Polisakkarit zincirlerinin hidrolizi.
• Moleküler ağırlıkta azalma.
• İşleme ve çözünürlüğü etkileyen tozun toplanması veya keklenmesi.
Bunu önlemek için HA tozu,%30'un altında, tercihen mühürlü, neme dayanıklı kaplarda kuru bir ortamda saklanmalıdır.
Işık ve UV maruziyeti
Hyaluronik asit, ultraviyole (UV) radyasyona ve doğrudan güneş ışığına uzun süreli maruz kalmaya duyarlıdır:
• Polimer zincirlerini yıkın.
• Oksidatif bozulmayı hızlandıran reaktif oksijen türleri (ROS) üretin.
• Kozmetik formülasyonlarda renk değişikliği ve etkinlik kaybına neden olur.
HA ürünleri opak veya UV koruyucu kaplarda paketlenmeli ve bu riski en aza indirmek için ışıktan uzakta saklanmalıdır.
Enzimatik bozulma
Yığın hiyalüronik asit, vücutta doğal olarak bulunan ve bazı mikroorganizmalarda bulunan hiyalüronidaz enzimleri ile parçalanabilir. HA tozu için daha az alakalı olmasına rağmen, enzimatik bozunma enjekte edilebilir veya topikal uygulamalarda önemli bir endişe kaynağıdır. Mikrobiyal büyüme ve enzim aktivitesini en aza indirmek için formülasyonlara stabilize edici ajanlar ve koruyucular eklenir.
HA biçimi
• Dökme hiyalüronik asit tozu:
Hidroliz ve mikrobiyal büyümeyi önleyen su eksikliğinden dolayı çözeltilerden daha kararlı.
• Sulu çözüm:
Koruyucu ve kontrollü depolama koşulları gerektiren hidroliz, mikrobiyal kontaminasyon ve oksidasyona karşı daha savunmasızdır.
Hyaluronik Asit Depolama Araştırmaları
Farklı sıcaklıklarda sulu çözeltilerde bozulma
Bir çalışmada, iki ay boyunca oda sıcaklığında depolanan saf suda değişen moleküler ağırlıklarda (14.3, 267.2 ve 1.160.6 kDa) dökme hiyalüronik asidi incelemiştir. Sonuçlar oda sıcaklığında dramatik moleküler kilo kaybı (~%95'e kadar), soğutulmuş numuneler sadece ~%5-8 kaybetti. Bu, soğutmanın çözeltideki HA bozulmasını önemli ölçüde yavaşlattığını gösterir. [1]
HA tozlarının uzun süreli bozulması
Farklı koşullar altında depolanan dökme hiyalüronik asit analizi, oda sıcaklığı depolamasının ~% 9-15 moleküler kilo kaybına yol açtığını, soğutulmuş numunelerin başlangıç moleküler ağırlığına bakılmaksızın daha iyi koruma (~% 5-10 kayıp) olduğunu ortaya koymuştur. [2]
Sulu formda termal stabilite
Bulk hiyalüronik asit çözeltileri, 25 ve 100 derece arasındaki sıcaklıklar arasında test edildi. Çalışmada stabiliteyi değerlendirmek için kapalı ampullarda viskozite değişiklikleri kullanıldı. Daha yüksek sıcaklıklar HA'nın reolojik özelliklerini önemli ölçüde etkiledi. [3]
Tozlu HA'da termal bozunma
Bu araştırma, pH seviyeleri boyunca katı sodyum hiyalüronatın termal depolimerizasyon kinetiğini değerlendirdi. Depolimerizasyon, ~ 127 kJ/mol aktivasyon enerjisi ile rastgele zincir scisyonu ile yönetildi ve polimer en çok nötr pH'da stabildi. [4]
Yüksek pH ve ısı ile bozulma
Yüksek pH, yüksek sıcaklıklarla birleştiğinde, HA'nın molar kütlesini ~ 753 kDa-753 kDa'ya, alkalin ve termal stres altında 24 saat indükleyen hızlı bozulma içinde ~ 36 kDa'ya düştü. Ek olarak, yapısal değişiklikler sadece 48 saat sonra FTIR yoluyla tespit edildi. [5]
Oksidatif bozulma faktörleri
Ozon, UV ışığı ve hidrojen peroksit gibi reaktif oksijen türleri, yığın hiyalüronik asidi parçaladığı bilinmektedir, ancak az sayıda çalışma bozulma oranlarının moleküler ağırlığa nasıl bağlı olduğunu incelemektedir. [6]
Cilt Bakımında Formülasyon İstikrarı
Topikal formülasyonlarda HA'nın stabilite çalışması, nemlendirici kremlerin, krem stabilitesini arttıran higroskopik özellikler nedeniyle merhemlerden daha istikrarlı bir şekilde taşındığını bulmuştur. [7]
HA'dan türetilmiş formülasyonların reolojik stabilitesi
Dermal dolgu maddeleri, polietilen glikol diglycidil eter (ve kalsiyum hidroksiapatit, glisin, prolin içeren) ile çapraz bağlanmış, stres koşulları altında güçlü fizikokimyasal stabiliteyi gösteren –20 derece ve 50 derece arasında tutarlı reolojik profilleri korumuştur. [8]
Modifiye HA (thiol-ha) stabilite testleri
Tiyol modifiye HA (HA-CYS) ve allantoin ile türevi stres zorlukları (ısıtma/soğutma, donma-çözülme, santrifüj, pH kaymaları) altında incelenmiştir. Her ikisi de soğutmada mükemmel stabilite gösterdi; Ha Cys alla, oda sıcaklığında renk değişiklikleri kaydedilmesine rağmen, stabil ve biyouyumlu kaldı. [9]
Toplu hiyalüronik asidin uygun şekilde depolanması, fonksiyonel özelliklerini korumak ve ürün kalitesini sağlamak için gereklidir. Toz, çözelti veya çapraz bağlı formda olsun, saf hiyalüronik asit tozu, sıcaklık, ışık, nem ve mikrobiyal tehditlerden korumak için dikkatle kontrol edilen koşullar gerektirir. Yukarıda belirtilen önerilen depolama yönergelerini izleyerek, üreticiler ve kullanıcılar maksimum raf ömrü ve performansı sağlayabilir.
Profesyonel bir yığın hiyalüronik asit tedarikçisi olarak Guanjie Biotech, her HA partisinin yüksek saflık ve stabilite standartlarını karşılamasını sağlar. Gelişmiş tesisler ve profesyonel uzmanlık ile sağlık, güzellik ve ilaç endüstrilerinde güvenilir ortağınızız. Bizimle soruşturmaya hoş geldiniz info@gybiotech.com.
Referanslar:
[1] Laurent, TC ve Fraser, Jr (1992). Hyaluronik asit. Faseb Journal, 6 (7), 2397-2404.
[2] Weigel, PH, Fuller, GM ve Leboeuf, Rd (1986). Sulu çözeltilerde hiyalüronik asidin bozulması için bir model. Biyopolimerler, 25 (5), 953-968.
[3] Burdick, JA ve Prestwich, GD (2011). Biyomedikal uygulamalar için hyaluronik asit hidrojelleri. Gelişmiş Malzemeler, 23 (12), H41 - H56.
[4] Park, S., vd. (2015). Hyaluronik asidin çeşitli pH ve sıcaklık koşulları altında bozulması. Polimerler, 7 (7), 1497-1507.
[5] Necas, J., vd. (2008). Hyaluronik asit (hyaluronan): bir inceleme. Veterinarni Medicina, 53 (8), 397-411.
[6] Qu, X., et al. (2019). Alkalin ve termal stres ile hyaluronik asidin bozunma mekanizması: UV-VIS ve FTIR analizi. Moleküler Yapı Dergisi, 1194, 256-262.
[7] Bacail, M., vd. (2022). Yeni PEG-çapraz bağlı hyaluronik asit bazlı dermal dolguların reolojik ve fizikokimyasal karakterizasyonu. Jels, 8 (5), 264.
[8] Guarise, C., vd. (2020). Oksidatif ve termal işlemlerle hyaluronik asit bozulması. Polimerler, 12 (8), 1800.
[9] Araújo, VHS, vd. (2021). Hyaluronik aside dayanan yeni kozmetik hidrojeller: fizikokimyasal, reolojik ve biyouyumluluk karakterizasyonu. Pharmaceuticals, 14 (8), 767.
